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聚焦于高纯气体,稳定同位素,金属化合物和高纯化学品等化工新材料的供应和销售
Hydrogen Chloride - 氯化氢 - ( HCL )
氯化氢是一种无色,腐蚀,有毒,不易燃,有刺激性气味的气体。对粘膜有很强刺激性。氯化氢比空气重,在潮湿空气中形成浓密烟雾,并对水具有极大的亲和力。在其自身蒸汽压力下被作为液化性气体运输。
规格 | ||
纯度 , % | 99.9 | 99.999 |
氧气 | ≤10 ppmv | ≤ 0.5 ppmv |
氮气 | ≤10.0 ppmv | ≤ 2 ppmv |
二氧化碳 | ≤5.0 ppmv | ≤2.0 ppmv |
一氧化碳 | ≤5.0 ppmv | ≤1.0 ppmv |
甲烷 | ≤5.0 ppmv | ≤0.3 ppmv |
水分 | ≤2.0 ppmv | ≤1.0 ppmv |
铁离子 | ≤1.0 | |
运输 | ||
DOT 运输名称 | 氯化氢,无水 | |
DOT 分类 | 2.3 | |
DOT 标签 | 毒气,吸入有害,腐蚀性气体 | |
UN NO. | UN 1050 | |
CAS No. | 7647-01-0 | |
CGA/DISS/JIS/BS341/DIN477 | 330/634/W26-14R/NO.6/NO.8 | |
运输状态 | 液化性气体 | |
技术信息 | ||
钢瓶状况 @ 21.1°C | 液体 | |
在空气中的燃烧极限 | 不可燃 | |
自然温度 (°C ) | - | |
分子量 (g/mol) | 36.461 | |
比重 ( 空气 =1) | 1.19 | |
临界温度 ( °C ) | 51.54 | |
临界温度 ( psig ) | 1185 | |
应用 | ||
1. 在电子工业中, 选择性蚀刻。 2. 在半导体制造:在外延沉积前用于蚀刻天然氧化物;CVD 反应釜清洗, CVD 氧化物除水。 | ||